HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。
技术参数
特点  ?
| - 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
- 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布
- 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命
- 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
- 安装是采用标准真空接头，便于操作
- 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度
- 配有一块铜靶
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溅射头 
（点击图片查看详细资料） | - 溅射头的直径:46.3mm
- 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
- 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm)
- 磁环:NdFeB稀土永磁铁
- 杆的直径: 3/4" O.D.
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所需功率 | DC (zui大) 250 W RF （zui大）100 W |
zui大阴极溅射电流 | 3A |
阴极溅射电流 | 200 - 1,000 V |
可选压力范围 | ~1 mTorr 至1 Torr |
溅射厚度均匀性图 |  - 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：
- 功率：直流150W
- 真空环境：10mTorr(Ar)
- 靶材与基片的距离：75mm
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水冷却 
| - 所需水流量： 1/2 GPM
- 进水温度：<20 C
- 水管接头：0.25" O.D快插头
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接头 | - 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
- 本公司会赠送一高真空快速接头
- 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
  
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产品长度 | 14英寸（355.6mm) |
产品重量 | 1.36kg |
倾斜装置 | - 溅射头相对于杆zui大可倾斜+/- 45度
- 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度
  
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可选配件 | - 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L
- 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪
   
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质保期 | 一年质保期终生维护 |
应用 | - 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：
- 薄膜涂覆
- 半导体器件
- 磁记录介质
- 超导薄膜
- 量子计算器件
- MEMS
- 生物传感器
- 纳米技术
- 超晶格
- 颗粒膜
- 记忆合金
- 组合薄膜沉积
- 光学薄膜
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