背景介绍

上海市某半导体厂，专注于研发和制造专业应用的晶圆。晶圆生产工艺复杂，其中蚀刻工序使用氢氟酸溶液进行蚀刻、并用高纯水清洗，在这个工序中产生了大量的高浓度含氟废水，含氟废水经过加药、混凝沉淀处理后达标排放。

该半导体厂在总排口处安装了一台FBM—160 氟离子浓度分析仪。根据国标《污水综合排放标准》（GB8978-1996）以及上海市环境保护局发布的地方标准《半导体行业污染物排放标准》（DB31），该半导体厂执行三级标准，其总排口的氟限值为 20mg/L。

氟离子浓度分析仪的现场图如下图所示，控制器采用管式安装，电极采用浸入式安装。

哈希解决方案

FBM—160 氟离子浓度分析仪采用氟离子选择电极法，监测方法符合国标 GB7484-1987。氟离子浓度分析仪结构简单，氟离子电极现场采用浸入式安装，在无选配自动清洗组件的前提下，每月人工清洗一次电极，三个月校准一次电极。在正常维护条件下，每年更换一次氟离子电极。现场安装方便，维护较简单，测量值均低于20mg/L，和实验室比对数据良好，符合用户的测量要求。

FBM—160 氟离子浓度分析仪

FBM-160 氟离子浓度分析仪采用国标方法监测——氟离子选择电极法，不消耗试剂，可更换电极头，减少维护费用；安装简单，可在现场采用浸入池中安装，也可以在排口采用流通式安装。可选配自清洗组件，减少用户的人工清洗工作；具备多个量程,0~99.9mg/L；0~999mg/L或0~9990mg/L，满足含氟废水进排口的不同测量范围需求。

FBM-160 氟离子浓度分析仪广泛应用于电子行业的含氟废水监测，在正常维护下，能够满足用户废水总排口的测量需求。