Nanoscribe QX系列双光子无掩
Nanoscribe荣获欧洲ECOC 2024行业大奖
Nanoscribe荣获ECOC 2024行业大奖,
Quantum X align 三维光刻技术领航光子集成新突破
Nanoscribe 的 Quantum X 对准系统刚刚在欧洲头部光通信展 ECOC 2024 上荣获“Most Innovative Product“:具创新芯片级封装/光学子组件奖"。
Most Innovative Product: Most Innovative Chip-Scale Packaging/Optical Sub Assembly Award Shortlist:
WINNER! Nanoscribe GmbH & Co. KG for Nanoscribe’s Quantum X align
同期获奖的还有华为与相干联合获得的“具创新光子器件奖"等。
ECOC Exhibition 2024 是欧洲光通信会议与展览(European Conference on Optical Communication, 简称 ECOC)的一部分。它是全球光通信行业头部影响力的活动之一,专注于展示光纤通信技术的最新进展和创新,包括光网络、光纤技术、光子器件和相关技术的应用。
ECOC Exhibition 吸引了来自全球的电信运营商、网络设备制造商、组件供应商和科研机构。展览会除了展示最新的产品和技术外,还包括技术研讨会、专题讨论会以及行业专家的演讲,为业内人士提供一个交流、合作与学习的平台。
2024年的 ECOC Exhibition 将继续聚焦光通信行业的发展,展示光通信技术领域的突破性成果,以及在传输、网络、光纤产品和光子集成等方面的最新进展。
在今年的展会上,Nanoscribe的Quantum X align 3D微纳光刻系统荣获了ECOC行业奖。这一创新系统在“芯片级封装/光学子组件"类别中获奖,因其能够以纳米级精度生产低损耗的光耦合器,推动了光子集成和封装的发展。该技术通过精准的3D打印微光学元件,显著提高了光耦合的可靠性和性能,这在光子学领域至关重要。这证明了 Nanoscribe 3D 光刻技术的强大实力,未来可期!
全新升级的Nanoscribe Quantum X align系统配备的2GL技术将双光子聚合(2PP)的高分辨率与体素调整技术相结合,极大减少了打印层数,使得2GL成为目前基于2PP原理的最快速的微尺度3D打印方案。该技术在兼顾优异形状精度和打印质量的同时实现高速打印,为全新应用领域奠定了基础,可在提高打印质量前提下以更短的打印时间内制造更为精细的微光学系统。整个打印过程在保持高速扫描的同时实现实时动态调整激光功率。这使得聚合体素得到精确尺寸调整,以匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤,不产生形状失真的要求下,最终您将获得具有无瑕疵光学级表面的任意3D打印设计的100%真实形状。 Nanoscribe全新双光子灰度光刻技术标志着基于2PP原理的3D微纳加工新时代。除了微光学和光子学之外,这项技术还可适用于许多潜在应用,而高速打印、光学质量表面、精细的亚微米细节或纹理表面则成为了关键因素。Nanoscribe通过研发3D printing by 2GL,将体素调整技术引入到三维层面。
更多有关3D双光子无掩模光刻技术和产品咨询
欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司
德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D无掩模光刻系统:
Photonic Professional GT2 双光子微纳3D无掩模光刻系统
Quantum X Align 双光子纳米自动对准系统
Quantum X shape 双光子高性能3D微纳加工系统
Quantuam X bio 双光子高精度3D生物打印系统